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도서명 :
Anisotropic Etching
of InP and InGaAs by Using an Inductively Coupled Plasma in Cl₂/N₂ and Cl₂/Ar Mixtures at Low Bias Power
저 자 :
J. W. Bae
청구기호 :
소장처 :
참고자료실(관광학관2층)
대출요구사항 :
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