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도서명 :
Effects of Annealing
Temperature on the Characteristics of HfSiχOy-HfO₂ films Deposited for Metal-Insulator-Metal Capacitors by Using Atomic Layer Deposition
저 자 :
S.-W Jeong
청구기호 :
소장처 :
참고자료실(관광학관2층)
대출요구사항 :
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