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도서명 :
Low-Dielectric-Const
ant SiOC(-H) Films Prepared from DMDMS and O₂ Precursors by Using Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition
저 자 :
Seung Hyung Kim
청구기호 :
소장처 :
참고자료실(관광학관2층)
대출요구사항 :
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