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도서명 :
Physical and Electri
cal Characteristics of Atomic-Layer-deposited Hf-Silicate Thin Films Using Hf[N(CH₃)(C₂H5)]₄and SiH[N(CH₃)₂]₃ Precursors
저 자 :
K. B. Chung
청구기호 :
소장처 :
참고자료실(관광학관2층)
대출요구사항 :
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