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도서명 :
Properties of the Ul
tra-Thin Silicon-Oxynitride Films Deposited by Using Plasma-Assisted N2O Oxidation for Semiconductor Device Applications
저 자 :
Sunghyun Hwang
청구기호 :
소장처 :
참고자료실(관광학관2층)
대출요구사항 :
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