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도서명 :
New Fabrication Tech
nique Using Side-Wall-Type Plasma-Enhanced Chemical-Vapor Deposition for a Floating Gate Memory with a Si Nanodot
저 자 :
Kazunori Ichikawa.
청구기호 :
소장처 :
참고자료실(관광학관2층)
대출요구사항 :
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