인쇄
미지정
도서명 :
Electrical and Optic
al Properties of Nitrogen-Incorporated Silicon-Oxide Films by Using Plasma-Enhanced Chemical-Vapor Deposition with Tetramethoxysilane /N₂O/NH₃ Gas
저 자 :
C. J. Chung.
청구기호 :
소장처 :
참고자료실(관광학관2층)
대출요구사항 :
출력