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도서명 :
Studies on Al₂O₃/ZrO
₂/Al₂O₃High K Gate Dielectrics Applied in a Fully Depleted SOI MOSFET
저 자 :
Chenglu Lin, Ninglin Zhang, Qinwo Shen
청구기호 :
소장처 :
참고자료실(관광학관2층)
대출요구사항 :
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