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도서명 :
A Study on the Strai
n Stability of Si/SiGe Layer Structure in a Heterojunction Bipolar Transistor during Thermal Processing
저 자 :
Zhihong Liu, Changchun Chen, Wentao Huang
청구기호 :
소장처 :
참고자료실(관광학관2층)
대출요구사항 :
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