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도서명 :
Cobalt Interlayer와 T
iN capping를 갖는 새로운 구조의 Ni-Silicide 및 Nano CMOS에의 응용
저 자 :
오순영, 윤장근, 박영호
청구기호 :
소장처 :
참고자료실(관광학관2층)
대출요구사항 :
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