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도서명 :
코발트 실리사이드 접합을 사용하는 0
.15㎛ CMOS Technology에서 얕은 접합에서의 누설 전류 특성 분석과 실리사이드에 의해 발생된 Schottky Contact 면적의 유도
저 자 :
강근구, 장명준, 이원창
청구기호 :
소장처 :
참고자료실(관광학관2층)
대출요구사항 :
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