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18 Results:AA:김창일(CHANG IL KIM) 0.218 sec.
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반도체 : CF4 / Ar 플라즈마 내 Cl2 첨가에 의한 SrBi2Ta2O9 박막의 식각 특성
반도체 : CF4 / Ar 플라즈마 내 Cl2 첨가에 의한 SrBi2Ta2O9 박막의 식각 특성
김창일(Chang Il Kim), | 한국전기전자재료학회 | 2001 ,
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전자세라믹스 / 다층구조 InSb 홀소자의 제작과 특성
전자세라믹스 / 다층구조 InSb 홀소자의 제작과 특성
이우선(Woo Sun Lee), | 한국전기전자재료학회 | 2000 ,
3
반도체 / 도핑되지 않은 비정질 실리콘의 고밀도 Cl2/HBr/O2 플라즈마에 의한 식각 시 나칭 효과
반도체 / 도핑되지 않은 비정질 실리콘의 고밀도 Cl2/HBr/O2 플라즈마에 의한 식각 시 나칭 효과
유석빈(Seok Bin Yu), | 한국전기전자재료학회 | 2000 ,
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탈이온수의 압력과 정제된 N2 가스가 ILD - CMP 공정에 미치는 영향
탈이온수의 압력과 정제된 N2 가스가 ILD - CMP 공정에 미치는 영향
김상용(Sang Yong Kim), | 한국전기전자재료학회 | 2000 ,
5
자장강회도니 유도결합 플라즈마를 이용한 ( Ba , Sr ) TiO3 박막의 식각 특성 연구
자장강회도니 유도결합 플라즈마를 이용한 ( Ba , Sr ) TiO3 박막의 식각 특성 연구
민병준(Byung Jun Min), | 한국전기전자재료학회 | 2000 ,
6
반도체 : 유도결합 플라즈마에 의해 식각된 PZT 박막의 식각 Damage 개선
반도체 : 유도결합 플라즈마에 의해 식각된 PZT 박막의 식각 Damage 개선
강명구(Myoung Gu Kang), | 한국전기전자재료학회 | 2001 ,
7
반도체 : 유도 결합 플라즈마를 이용한 CeO2 박막의 식각 메커니즘
반도체 : 유도 결합 플라즈마를 이용한 CeO2 박막의 식각 메커니즘
오창석(Chang Seok Oh), | 한국전기전자재료학회 | 2001 ,
8
반도체 : 유도결합 플라즈마에 의한 (Ba,Sr)TiO3 박막의 식각 손상에 관한 연구
반도체 : 유도결합 플라즈마에 의한 (Ba,Sr)TiO3 박막의 식각 손상에 관한 연구
최성기(Sung Ki Choi), | 한국전기전자재료학회 | 2001 ,
9
전자세라믹스 : Ca 치환에 따른 ( Sr . Ca ) TiO3 계 세라믹스의 구조적 및 유전특성
전자세라믹스 : Ca 치환에 따른 ( Sr . Ca ) TiO3 계 세라믹스의 구조적 및 유전특성
최운식(Woon Shik Choi), | 한국전기전자재료학회 | 2001 ,
10
반도체 : CF4 / Ar 가스 플라즈마를 이용한 YMnO3 박막의 식각 반응연구
반도체 : CF4 / Ar 가스 플라즈마를 이용한 YMnO3 박막의 식각 반응연구
김동표(Dong Pyo Kim), | 한국전기전자재료학회 | 2001 ,
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